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日本filmetrics薄膜厚度分析FIL Mapper設(shè)備的功能

日本filmetrics薄膜厚度分析FIL Mapper設(shè)備的功能

薄膜厚度分析 FIL Mapper 軟件具有強(qiáng)大而*的薄膜厚度分析算法和讓您輕松規(guī)定測量點(diǎn)的功能。

可進(jìn)行高速測量,最快可在 21 秒內(nèi)完成 300 mm 晶圓上的 25 點(diǎn)測量。


F50自動(dòng)映射膜厚測量系統(tǒng)是結(jié)合了基于光學(xué)干涉原理的膜厚測量功能和自動(dòng)高速平臺(tái)的系統(tǒng)。
以過去無法想象的速度測量規(guī)定點(diǎn)的膜厚和折射率。它支持從 2 英寸到 450 毫米的硅基板,并且可以規(guī)定任何測量點(diǎn)。
還有與大型玻璃基板兼容的可選產(chǎn)品。

主要特點(diǎn)

  • 將基于光學(xué)干涉原理的膜厚測量功能與自動(dòng)高速載物臺(tái)相結(jié)合的系統(tǒng)

  • 以過去無法想象的速度測量規(guī)定點(diǎn)的膜厚和折射率

  • 兼容2英寸至450毫米的硅基板,可規(guī)定任意測量點(diǎn)。

主要用途

半導(dǎo)體抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/聚乙烯、
拋光硅片、化合物半導(dǎo)體襯底、?T襯底等。
平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR薄膜、
各種光學(xué)薄膜等
薄膜太陽能電池CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等



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