shinkuu真空蒸鍍設(shè)備的特點(diǎn)
真空蒸發(fā)系統(tǒng)是在真空氣氛中使材料蒸發(fā)、蒸發(fā),在樣品上形成薄膜的裝置。
通常使用渦輪分子泵在高真空下沉積薄膜,并且可以制造沒有雜質(zhì)的薄膜。
真空設(shè)備用蒸鍍設(shè)備可以通過順序程序控制操作輕松創(chuàng)建高真空環(huán)境,具有緊湊且價格低廉的產(chǎn)品陣容,非常適合研究和開發(fā)。從大氣壓到 10x10 -4 Pa 區(qū)域的到達(dá)時間約為 5 分鐘。我們將通過轉(zhuǎn)換傳統(tǒng)的舊系統(tǒng)來加快研發(fā)速度。
我們提供具有緊湊型 TMP + RP 排氣系統(tǒng)且價格低廉的清潔高真空氣相沉積系統(tǒng)。
取消復(fù)雜的排氣操作,僅通過觸摸面板開關(guān)的 ON/OFF 實(shí)現(xiàn)全自動控制。
通過結(jié)合小型渦輪分子泵(RP 放置在外部)實(shí)現(xiàn)緊湊的尺寸。它在桌子上的小空間里工作得很好。
金、鋁、鉻、銀等可以通過使用鎢籃進(jìn)行氣相沉積。碳沉積使用使用特殊碳 ( SLC-30 ) 進(jìn)行沉積的夾式沉積槍類型。
該機(jī)型專門用于電鏡樣品的預(yù)處理和金、鋁、鉻等薄膜的制備。
VE-2030 有多種附件(選項)。我們可以根據(jù)您的研究目的靈活應(yīng)對定制。內(nèi)置渦輪分子泵和旋轉(zhuǎn)泵。
我們提供廣泛的服務(wù),包括鎢籃氣相沉積、鉬舟、K 電池加熱、EB 槍和碳棒氣相沉積。
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