關(guān)于shinkuu磁控濺射設(shè)備的了解
磁控濺射裝置應(yīng)用了在靶材背面使用強磁鐵促進陰極表面層電離的原理,然后用磁場用離子轟擊靶材以釋放金屬分子。
在電子顯微鏡應(yīng)用中,主要使用金和鉑等貴金屬。 我們還有一系列型號,可以濺射其他金屬靶材。
電子顯微鏡濺射,主要顆粒尺寸比較
相關(guān)產(chǎn)品介紹
只需使用計時器設(shè)置涂層時間,然后按開始按鈕!
任何人都可以輕松進行濺射。
裝置 | 特征 | 目標金屬 |
MSP-mini 超緊湊型濺射機 這是光學顯微鏡,銀光膜制作,SEM和臺式SEM預(yù)處理的工具。 | ||
MSP-1S 這是一個內(nèi)置泵的小型濺射裝置。 鉑靶的濺射也是可能的,也可用于高達約50,000次的高倍率觀察。 |
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